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小型蒸餾水機(jī)使用后請注意清洗

更新時間:2021-10-12瀏覽:2450次
  小型蒸餾水機(jī)是是以去離子水為原料水,用蒸汽加熱的蒸餾水生產(chǎn)設(shè)備。該設(shè)備所生產(chǎn)的蒸餾水水質(zhì)穩(wěn)定,純度高,無熱原。是目前應(yīng)用的注射用水制備系統(tǒng)的關(guān)鍵設(shè)備。多效蒸餾水機(jī)采用高溫高壓操作,確保穩(wěn)定生產(chǎn)無熱原注射用水。
  它可分一次和多次蒸餾水。水經(jīng)過一次蒸餾,不揮發(fā)的組分殘留在容器中被除去,揮發(fā)的組分進(jìn)入蒸餾水的初始餾分中,通常只收集餾分的中間部分,約占60%。要得到更純的水,可在一次蒸餾水中加入堿性高錳酸鉀溶液,除去有機(jī)物和二氧化碳;加入非揮發(fā)性的酸,使氨成為不揮發(fā)的銨鹽。由于玻璃中含有少量能溶于水的組分,因此進(jìn)行二次或多次蒸餾時,要使用石英蒸餾器皿,才能得到很純的水,所得純水應(yīng)保存在石英或銀制容器內(nèi)。
  小型蒸餾水機(jī)的清洗方法分析:
  多效蒸餾水機(jī)中產(chǎn)生的水垢主要有兩種,一種是鍋爐水垢,另一種是二氧化硅水垢,清洗時應(yīng)采用不同的清洗劑:
  1、對鍋爐水垢,可用氨基磺酸(NH2SO2OH),使用時用去離子水配制成濃度為1%的清洗溶液,其PH值在所1~2之間,并加熱到60℃左右。也可用磷酸(H3PO4),使用時用去離子水配制成2%濃度的清洗溶液,并加熱到65℃左右
  2、對二氧化硅水垢,可采用二氟化銨(NH4HF2),使用時用去離子水配制成濃度為1.5%的溶液,并加熱到50℃~60℃。也可采有用氫氧化鈉+陰離子活性劑,配制成濃度為10%的清洗液,并加熱到60℃左右。在化學(xué)清洗方法去除上述兩種水垢時,多效蒸餾水機(jī)不少用戶還采用市售的通用型不銹鋼清洗劑,效果不錯,使用也較方便。在使用酸性溶液清洗以后,一般還要求使用中和溶液進(jìn)行中和。中和溶液的配制方法如下:在去離子水中加入0.5%的小蘇打(HaHCO3)和0.1%陰離子界面活性劑。
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